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半導體指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。

半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。

半導體超純水設備制備工藝：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3、預處理→反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

半導體生產用超純水設備工作原理：

超純水裝置供給原水進入EDI系統，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿膜板外側流動，以洗去透出膜外的離子，樹脂截留水中的容存離子，被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動，陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外，陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外，濃縮了的離子從廢水流路中排出，無離子水從樹脂/膜內流出。

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