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小型高溫真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD

是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。

真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：

（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。

（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠

低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。

技術參數

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離	70-140mm
蒸發溫度調節	≤1800℃
支持蒸發坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）