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納米氧化銅粉-納米氧化物粉體

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技術參數

產品歸類	型號	平均粒徑（nm）	純度（%）	比表面積（m2/g）	體積密度（g/cm3）	晶型	顏色
納米級	CW-CuO-001	40	99.9	38	0.70	近球形	黑色
納米級	CW-CuO-002	100	99.9	20	1.20	近球形	黑色
加工定制	根據客戶需求適當調整產品純度及粒度

主要特點

1納米氧化銅粉通過高頻等離子體氣相燃燒法制備，產品純度高，粒徑小，分布均勻，比表面積大，高表面活性，松裝密度低，氣相法制備，克服了市場上濕化學法制備的顆粒硬團聚、難分散、純度低等缺點；

2溶于稀酸、NH4Cl、(NH4)2CO3、氰化鉀溶液，不溶于水，在醇、氨溶液中溶解緩慢。高溫遇氫或一氧化碳，可還原成金屬銅；

3納米氧化銅粉體具有比大尺寸氧化銅粉體更優越的催化活性和選擇性及其他應用性能。納米氧化銅的粒徑介于1－100nm，與普通氧化銅相比，具有表面效應、量子尺寸效應、體積效應以及宏觀量子隧道效應等優越性能。在磁性、光吸收、化學活性、熱阻、催化劑和熔點等方面表現出奇特的物理和化學性能。

納米氧化銅CuO粉電鏡圖鐠

納米氧化銅CuO粉電鏡圖鐠

應用領域

1在催化、超導、陶瓷等領域中作為一種重要的無機材料有廣的應用。

2用作催化劑和催化劑載體以及電極活性材料。

3用作玻璃、瓷器的著色劑，光學玻璃磨光劑，有機合成的催化劑、油類的脫硫劑、氫化劑。

4制造人造寶石及其它銅氧化物。

5用于人造絲的制造，以及氣體分析和測定有機化合物等。

6還可作為火箭推進劑的燃速催化劑。納米氧化銅粉體具有比大尺寸氧化銅粉體更優越的催化活性和選擇性及其他應用性能。

納米氧化銅CuO粉XRD圖鐠

納米氧化銅CuO粉XRD圖鐠

技術支持

提供納米氧化銅在催化、添加劑中的應用技術支持，具體應用咨詢請與銷售部人員聯系。

包裝儲存

本品為惰氣包裝，應密封保存于干燥、陰涼的環境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發生團聚，影響分散性能和使用效果。

納米氧化銅粉-納米氧化物粉體 http://www.cwnano.com.cn/product-item-36.html

松下32納米制程LSI本月正式量產

今年10月起，松下開始以32納米制程批量生產大規模集成電路（LSI），LSI(Large-scale integration)將應用于松下支持3D放映的藍光播放器中。32納米制程的LSI在今年春季首次被美國英特爾應用于筆記本電腦中而實現量產，此次松下把32納米制程的LSI應用于旗下家電制造中在業界還是首次。

　　32納米制程的LSI將在松下位于日本富山縣魚津市的工廠內開始量產，由于該工廠目前已經在批量生產目前世界最先進的45納米制程的LSI，多數生產設備可以繼續利用以生產32納米制程的LSI，因而松下僅需付出少量資金用于更新生產設備。目前，松下并沒有公布量產規模及投資金額，不過松下將會把更新生產設備的投資金額控制在250億日元之內。

　　和現有的45nm工藝相比，32nm工藝在以下幾個方面有著顯著的變化：32nm工藝使用第二代高-K金屬柵級、0.9nm等價氧化物厚度高-K（45nm技術是1nm）、金屬柵級工藝流程更新、30nm柵極長度、第四代應變硅、有史以來最緊密的柵極間距（第一代32nm技術將使112.5nm柵極間距）、有史以來最高的驅動電流、晶體管性能提升22%、同比封裝尺寸將是45nm工藝產品的70%。

　　相對于45nm工藝，NMOS晶體管的漏電量減少5倍多，PMOS晶體管的漏電量則減少10倍以上。由于上述改進，電路的尺寸和性能均可得到顯著優化。